杭州璞璘科技（Prinano）日前向深圳力策科技正式交付PL-AS型半導體級真空氣壓式納米壓印光刻機，這是中國首台真正投入實際產線的納米壓印光刻設備。該設備專為光子集成電路（光芯片）設計，採用面接觸壓印技術，實現8英寸晶圓規模化量產，線寬小於10納米，徹底繞開傳統深紫外（DUV）光刻工藝，單片加工成本降至傳統方案的十分之一。此前，璞璘科技已在2025年8月交付中國首台半導體級步進式納米壓印設備PL-SR，此次PL-AS的落地標誌從工藝驗證走向量產替代的關鍵跨越。